ハシモト オサム   HASHIMOTO Osamu
  橋本 修
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2007/03
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 「誘電損材料を用いた一層型電波吸収体の電力照射時における温度分布」
執筆形態 共同
掲載誌名 『電子情報通信学会論文誌(C)』(電子情報通信学会)
掲載区分国内
巻・号・頁 (3),223-234頁
著者・共著者 渡邊慎也, 斉藤耕太, 倉形尚宏, *橋本 修, 斉藤寿文, 栗原 弘
概要 本論文では,まず誘電損材料を用いた一層型電波吸収体に,高出力高周波を照射した場合のその温度分布をサーモグラフィにて測定した。次に,FDTD法,SIMPLE法,モンテカルロ法及びREAD法をそれぞれ連成することで,電磁界とすべての伝熱現象を計算可能な電磁界伝熱連成解析手法(FDTD-SIMPLE-MR法)を用い,高出力高周波を照射した場合の一層型電波吸収体の温度分布を計算した。この結果,FDTD-SIMPLE-MR法による吸収体の温度分布の解析値と実験値の温度分布は良好に一致したものの,その温度は約6[℃]の差異が生じたため,その誤差検討を行い,原因を詳細に確認した。