ハシモト オサム   HASHIMOTO Osamu
  橋本 修
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2000/05
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 「FDTD法における抵抗皮膜近似式を用いた抵抗皮膜表現に関する検討」
執筆形態 共同
掲載誌名 『電子情報通信学会論文誌』
掲載区分国内
巻・号・頁 (5),748-751頁
著者・共著者 江原英利,*橋本 修
概要 本論文では、FDTD法を用いて抵抗皮膜を用いた解析を高精度に行うことができるように、抵抗皮膜の正確なモデル化について提案を行った。従来のFDTD法において、抵抗皮膜のような薄膜の表現方法としては、様々な検討がされており、例えばSIBC法のような解析モデルの表面インピーダンスを用いて解析する検討も行われてきたが、本提案では、新たに抵抗皮膜近似式を用いた導電率の導出法と、その導電率の各セルへの代入方法を検討し、差分式のみの計算として導入が容易にできるようにした。