アベ　ジロウ   ABE Jirou   阿部　二朗    所属   青山学院大学  理工学部 化学・生命科学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2007/11
形態種別	学術雑誌
標題	Rational design of a new class of diffusion-inhibited HABI with fast back-reaction
執筆形態	共同
掲載誌名	J. Phys. Org. Chem.
巻・号・頁	20,pp.857-863
著者・共著者	F. Iwahori, S. Hatano, J. Abe
概要	ヘキサアリールビスイミダゾールは紫外光照射により、ラジカルを生成するラジカル解離型フォトクロミズムを示すが、生成したラジカルは媒体中に散逸して、反応活性なフリーラジカルとなる。本論文では、ナフタレン環をリンカーとして用い、ラジカルの散逸を抑制した散逸抑制型HABIを合成し、そのフォトクロミック特性について報告した。