イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2018/05
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Dimethylaluminum hydride for atomic layer deposition of Al2O3 passivation of amorphous InGaZnO thin-film transistors
執筆形態 共同
掲載誌名 Appl. Phys. Express
掲載区分国外
巻・号・頁 11,pp.061103-1-5
著者・共著者 Dianne C. Corsino, Juan Paolo S. Bermundo, Mami N. Fujii, Kiyoshi Takahashi, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka
DOI 10.7567/APEX.11.061103