イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2018/02
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Fluorine incorporation in Solution Processed Poly-siloxane Passivation for Highly Reliable a-InGaZnO Thin-Film Transistors
執筆形態 共同
掲載誌名 J. Phys. D: Appl. Phys.
掲載区分国外
巻・号・頁 51,pp.125105-1-8
著者・共著者 Naofumi Yoshida, Juan Paolo Bermundo,, Yasuaki Ishikawa, Toshiaki Nonaka, Katsuto Taniguchi, and Yukiharu Uraoka
DOI 10.1088/1361-6463/aaaf51