イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2017/04
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Solution-derived SiO2 Gate Insulator Formed by CO2 Laser Annealing for Polycrystalline Silicon Thin-film Transistors
執筆形態 共同
掲載誌名 Jpn. J. Appl. Phys.
掲載区分国外
巻・号・頁 56,pp.056503-1-5
著者・共著者 Daisuke Hishitani, Masahiro Horita, Yasuaki Ishikawa, Hiroshi Ikenoue, and Yasuaki Uraoka
DOI 10.7567/JJAP.56.056503