イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2016/02
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Reactivity and stability of thallium oxide for fabricating TlSnZnO toward thin-film transistors with high mobility
執筆形態 共同
掲載誌名 J. Alloy. Comp.
掲載区分国外
巻・号・頁 672,pp.413-418
著者・共著者 Katsushi Kishimoto, Yoshitaro Nose, Yasuaki Ishikawa, Mami N. Fujii, and Yukiharu Uraoka
DOI 10.1016/j.jallcom.2016.02.199