イシカワ　ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki   石河　泰明    所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2020/07
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Improvement in bias stress stability of solution-processed amorphous InZnO thin-film transistors via low-temperature photosensitive passivation
執筆形態	共同
掲載誌名	IEEE Electron Dev. Lett.
掲載区分	国外
巻・号・頁	41,pp.1372-1375
著者・共著者	Aimi Syairah Safaruddin, Juan Paolo S. Bermundo, Naofumi Yoshida, Toshiaki Nonaka, Mami N. Fujii, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka
DOI	https://doi.org/10.1109/LED.2020.3011683