イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2018/10
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Influence of ALD Precursors and High-Pressure Water Vapor Annealing on Al2O3/GaN MOS Capacitor Characteristics
執筆形態 共同
掲載誌名 AIP Adv.
掲載区分国外
巻・号・頁 8,pp.105103-1-6
著者・共著者 Mutsunori Uenuma, Kiyoshi Takahashi, Sho Sonehara, Yuta Tominaga, Yuta Fujimoto, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka
DOI 10.1063/1.5041501