イシカワ ヤスアキ   ISHIKAWA Yasuaki
  石河 泰明
   所属   青山学院大学  理工学部 電気電子工学科
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2018/07
形態種別 学術雑誌
査読 査読有り
標題 Photosensitive polysiloxane passivation fabricated at low temperature for highly reliable amorphous InGaZnO thin-film transistors
執筆形態 共同
掲載誌名 Jpn. J. Appl. Phys.
掲載区分国外
巻・号・頁 57,pp.090306-1-5
著者・共著者 Naofumi Yoshida, Juan Paolo Bermundo, Yasuaki Ishikawa, Toshiaki Nonaka, and Yukiharu Uraoka
DOI 10.7567/JJAP.57.090306