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コウ シンジ
KOH Shinji
黄 晋二 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2004/07 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Fabrication of high-quality strain-relaxed thin SiGe layers by ion- implanted Si substrates |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | Applied Physics Letters |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 85,pp.2514-2516 |
| 著者・共著者 | K. Sawano, S. Koh, Y. Shiraki, Y. Ozawa, T. Hattori, J. Yamanaka, K. Suzuki, K. Arimoto, K. Nakagawa and N. Usami |