イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2012/07 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Effects of Gate Insulator on Thin-Film Transistors with ZnO Channel Layer Deposited by Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition |
執筆形態 | 共同 |
掲載誌名 | J. Display Technol. |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 9(9),pp.694-698 |
著者・共著者 | Yumi Kawamura, Masahiro Horita, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka |
DOI | 10.1109/JDT.2012.2213237 |