イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2011/02 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Fabrication of atomically flat Pt layer on sapphire substrate by low angle incidence sputtering method |
執筆形態 | 共同 |
掲載誌名 | Trans. Mat. Res. Soc. Jpn. |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 36,pp.11-13 |
著者・共著者 | Takashi Nishida, Kenshiro Asahi, Yasuhiro Yoneda, Kazuhisa Tamura, Daiju Matsumura, Hideo Kimura, Yasuaki Ishikawa, and Yukiharu Uraoka |
DOI | 10.14723/tmrsj.36.11 |