|
イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2019/05 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 招待論文 | 招待あり |
| 標題 | Degradation phenomenon in metal oxide semiconductor thin film transistors and techniques for its reliability evaluation and suppression |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | Jpn. J. Appl. Phys. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 58,pp.090502-1-10 |
| 著者・共著者 | Yukiharu Uraoka, Juan Paolo Bermundo, Mami Fujii, Mutsunori Uenuma, and Yasuaki Ishikawa |
| DOI | 10.7567/1347-4065/ab1604 |