|
イシカワ ヤスアキ
ISHIKAWA Yasuaki
石河 泰明 所属 青山学院大学 理工学部 電気電子工学科 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2018/09 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Properties of TlZnSnO film fabricated via sputtering from TlZnSnO target |
| 執筆形態 | 共同 |
| 掲載誌名 | J. Phys. D.: Appl. Phys. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 51,pp.415103-1-7 |
| 著者・共著者 | Katsushi Kishimoto, Yasuaki Ishikawa, Mami N. Fujii, Yoshitaro Nose, and Yukiharu Uraoka |
| DOI | 10.1088/1361-6463/aadccf |