研究者情報 - 重里　有三

シゲサト　ユウゾウ SHIGESATO Yuuzou
重里　有三

所属

青山学院大学理工学部化学・生命科学科

職種教授

研究業績（招待講演）
1.	2022/10/16	Deposition of functional oxide films by Reactive Sputtering; Various TCO’s, photocatalyst and optical films (Hersonissos, Greece,)
2.	2022/10/16	Modelling structural evolution of In2O3-based amorphous films during annealing (Hersonissos, Greece)
3.	2021/12/16	Thermal Transport Character of Hetero-Epitaxial Metal Oxides Thin Film and Thermophysical Property Database for Nanomaterial (Yokohama)
4.	2021/10/20	IGZO TFTs: from deposition process (オンライン)
5.	2021/09/02	Deposition of various TCO’s and the functional oxide films by dc reactive sputtering; (1) with plasma-emission or impedance feedback systems, (2) hollow cathode gas flow sputtering (オンライン)
6.	2021/05/25	Allen-Feldman理論に基づいた三元系アモルファス合金の熱伝導解析 (オンライン)
7.	2021/03/16	反応性スパッタによるSnOx薄膜のキャリアの発生源と伝導機構 (オンライン)
8.	2021/03/11	透明導電膜における熱伝導と新しい熱スイッチの開発 (東京大学 HASEKO-KUMA HALL + on line)
9.	2021/01/22	酸化物系透明導電膜の概要と酸化インジウム系透明導電膜の結晶化 (オンライン)
10.	2020/09/10	機能性薄膜の熱物性 (オンライン)
11.	2019/12/13	Toward understanding the defect-functionality relationship in bipolar SnO thin films (横浜（神奈川）)
12.	2019/11/12	反応性スパッタリングの基礎と応用展開 (グランパークカンファレンス（東京）)
13.	2018/10/26	「スパッタ法を用いた酸化物半導体薄膜の作製およびTFT特性」 (東京工業大学（神奈川県）)
14.	2018/07/29	Thin Film Photocatalysts sith Visible-Light Activities Deposited by Magnetron Sputtering (Hefei,Anhui (China))
15.	2018/06/10	Phonon Engineering on In₂O₃-and ZnO-based Thin Films (Perugia(Italy))
16.	2018/06/08	「透明導電膜の種類・性質・導電メカニズム、および、最新動向」 (佐賀県立九州シンクロトロン光研究センター(佐賀県）)
17.	2018/05/25	「透明導電膜の基礎と最新動向-各種特性、成膜技術、今後の展望等-」 (東京都)
18.	2018/05/11	「様々な透明導電膜の研究開発の現状と今後の展望」 (旭硝子㈱中央研究所（神奈川県）)
19.	2017/12	「透明導電膜の熱物性」 (Review on Thermophysical Properties of Transparent Conductive Oxide Films) (横浜市開港記念会館（神奈川）)
20.	2017/08/27	Thermophysical Properties of Transparent Conductive Oxide Thin Films (Kyoto University, Kyoto, Japan)
21.	2017/07/03	Reactive sputter depositions of various TCO films with the low resistivity (Waseda University, Tokyo, Japan)
22.	2017/06/18	Reactive sputter depositions of various TCOs, photocatalysts and thermochromic films (Padua (Italy))
23.	2017/04/28	「反応性スパッタリングによる様々な機能性酸化物・窒化物の成膜」 (東京都立産業技術研究センター（東京都）)
24.	2017/03/28	「透明導電膜の基礎と応用、および最新動向」 (きゅりあん（東京都）)
25.	2017/02/08	「スマートウィンドウ技術」 (日本ファインセラミックス協会（東京都）)
26.	2016/09/12	Reactive sputter deposition of functional oxide films with various performances (Garmisch-Partenkirchen（Germany))
27.	2016/07/15	「反応性スパッタリング、バイポーラ or ユニポーラパルススパッタリング、ガスフロースパッタリングの基礎と応用」 (東工大イノペーションセンター（東京都）)
28.	2016/07/01	「反応性スパッタ法による機能性酸化物薄膜の作製」 (東工大（東京都）)
29.	2015/12/10	Change in Structure and TFT Performances of IZO, IGO and IGZO Films by Crystallization (Otsu Prince Hotel(Japan))
30.	2015/12/08	反応性スパッタ法による機能性酸化物薄膜の高速成膜 (横浜市開港記念会館他（神奈川県）)
31.	2015/09/15	Recent studies of In₂O₃- and ZnO-based transparent conductive thin films (Warsaw(Poland))
32.	2015/07/08	Various oxide films with high performances deposited by reactive sputtering (Kyoto Research Park(Japan))
33.	2015/05/18	アモルファイルIZO, IGZOの結晶化挙動 (東京工業大学（神奈川県）)
34.	2014/10/12	Towards the property tailoring of ftransparent conducting In2O3-ZnO films (Crete(Greece))
35.	2014/08	明視野像・暗視野像を用いた高度な材料解析-相分離技法の事例紹介- (時之栖（静岡県）)
36.	2014/06/22	Optical and electrical properties of amorphous transparent In₂O₃-ZnO films (Dresden(Germany))
37.	2014/06/22	Review on thermophysical properties of various TCO thin films; ITO, IZO, AZO, ATO, TTO and NTO films (Dresden(Germany))
38.	2014/05/03	Oxide Electronic Devices in Transportation and Vehicles (Chicago(USA))
39.	2014/02/01	Effects of aluminum doping on Fermi level in polycrystalline ZnO films (San Francisco (USA))
40.	2013/11/25	ITO膜の成長メカニズムの解明やその制御 (東工大蔵前会館（東京都）)
41.	2013/08/23	透明導電膜の基礎物性(ITO,IZO,AZO薄膜の構造、電気特性、光学特性、表面物性) (マホロバ・マインズ三浦（神奈川県）)
42.	2013/07/19	透明導電酸化物薄膜の作成と物性評価 (アイビーホール（東京都）)
43.	2013/01/25	ITO, IZO, AZO薄膜の仕事関数と電気特性、光学特性 (アイビーホール（東京都）)
44.	2011/10/07	透明導電膜の最新動向★徹底解説～成膜法・新材料・最新動向を詳解～ (総評会館（東京都）)
45.	2011/09/19	Heat diffusion mechanisms in transparent conductive oxide films (Warsaw University of Technology (Poland))
46.	2011/01/21	透明導電膜の技術トレンド～基礎、成膜方法から新規材料開発まで～ (江東区産業会館（東京都）)